產品系列
  • 磁控濺射系列靶材
  各種磁控濺射純金屬及合金靶材,純度高、密度高、組織結構優良、使用壽命長。擁有兩項國家授權專利:采用最先進工藝生產的純金屬Cr靶(專利號:ZL 93 1 01604.5)和科學先進新穎的靶材結構設計(專利號:ZL 99 2 43973.6)。產品規格齊全,包括圓形、環形、矩形和管形等各種形狀,尺寸可根據用戶的要求定制。生產的靶材廣泛應用于大面積裝飾玻璃鍍膜、耐磨鍍膜、電子行業CD、VCD等各類光碟以及各種磁碟鍍膜等。產品市場占有率高,并遠銷美國、日本及臺灣等國家和地區。

靶材名稱 元素符號 純度(%) 密度(g/cm3) 熔點(℃)
鉻靶 Cr 99.95 7.18 1875
銀靶 Ag 99.99 10.5 960
金靶 Au 99.99 19.3 1064
鉭靶 Ta 99.99 16.6 2996
鈷靶 Co 99.95 8.9 1495
硅靶 Si 99.999 2.33 1410
鎢靶 W 99.9 19.6 3300
鉬靶 Mo 99.9 10.3 2600
鈮靶 Nb 99.9 8.57 2468
鋯靶 Zr 99.9 6.50 1852
鎳靶 Ni 99.95 8.9 1453
鈦靶 Ti 99.5 4.50 1668
鎳鉻靶 NiCr 99.95 隨成分變 隨成分變
鎳釩靶 NiV 99.95 隨成分變 隨成分變
鈷鉻靶 CoCr 99.95 隨成分變 隨成分變
鈷鎳鉻靶 CoNiCr 99.95 隨成分變 隨成分變
鈷鉻鉭靶 CoCrTa 99.95 隨成分變 隨成分變
鈷鎳鉭靶 CoNiTa 99.95 隨成分變 隨成分變
鐵鎳硅靶 FeNiSi 99.9 隨成分變 隨成分變
鉻硅靶 CrSi 99.9 隨成分變 隨成分變
不銹鋼靶 FeNiCr 316L 7.8 1425
還可以根據用戶要求生產各種純金屬及合金靶材
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